一種多晶硅鑄錠時(shí)的長(zhǎng)晶控制方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310668942.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103696001A | 公開(kāi)(公告)日 | 2014-04-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103696001A | 申請(qǐng)公布日 | 2014-04-02 |
分類(lèi)號(hào) | C30B29/06(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I | 分類(lèi) | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 王土軍;徐聞韜;徐增宏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 浙江硅宏電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州九洲專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 陳繼亮 |
地址 | 324300 浙江省衢州市開(kāi)化縣華埠鎮(zhèn)華豐路28號(hào)硅宏 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種多晶硅鑄錠時(shí)的長(zhǎng)晶控制方法,該方法包括下列步驟:A、將平鋪在坩堝底部的硅塊料部分溶化,余少部分作為長(zhǎng)晶用,降溫至硅溶點(diǎn)以下,開(kāi)始長(zhǎng)晶;B、長(zhǎng)晶初期,長(zhǎng)晶速度控制在0.4-0.8mm/h,時(shí)間持續(xù)3-4h;C、長(zhǎng)晶過(guò)渡期,長(zhǎng)晶速度控制在0.8-1.2mm/h,時(shí)間持續(xù)在4-6h;D、長(zhǎng)晶穩(wěn)定期,長(zhǎng)晶速度控制在1.0-1.4mm/h,時(shí)間持續(xù)20-24h;E、長(zhǎng)晶收尾期,長(zhǎng)晶速度控制在0.8-1.0mm/h,時(shí)間持續(xù)6-8h。采用本發(fā)明,控制過(guò)程增加了長(zhǎng)晶過(guò)渡期,長(zhǎng)晶速度由慢至快,再由快至慢,使長(zhǎng)晶處于相對(duì)均衡狀態(tài),能減少長(zhǎng)晶中的位錯(cuò),減少雜質(zhì)沉積,有效地提高了光電轉(zhuǎn)換效率。據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明,位錯(cuò)率較原有工藝減少了20%以上。 |
