硅片線痕測量的測試頭

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201220135177.9 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN202494408U 公開（公告）日 2012-10-17
申請公布號(hào) CN202494408U 申請公布日 2012-10-17
分類號(hào) G01B5/00(2006.01)I;G01B5/06(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 韓波;丁杰;于才華;袁前程 申請（專利權(quán)）人 寧波升科太陽能股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州金源通匯專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 寧波升科太陽能股份有限公司
地址 315040 浙江省寧波市高新區(qū)凌云路1177號(hào)-7號(hào)樓（寧波升科太陽能股份有限公司）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種硅片線痕測量的測試頭，包括測試頭本體，其特征是所述的測試頭本體為空腔結(jié)構(gòu)，其前端為尖頭結(jié)構(gòu)。其尖端部分的角度可以根據(jù)情況而設(shè)置。所述的測試頭本體上設(shè)有螺紋孔及與螺紋孔相配合的螺絲。測試時(shí)可通過螺絲將測試頭固定在千分尺的測砧上。本實(shí)用新型得到的硅片線痕測量的測試頭，克服現(xiàn)有千分尺無法深入測量敞口較為狹窄的物件，以及目前千分尺測試的局限性，而且能方便的安裝在普通千分尺上，對硅片進(jìn)行方便測量。