用于半導(dǎo)體材料的清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111326661.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114038736A 公開（公告）日 2022-06-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN114038736A 申請(qǐng)公布日 2022-06-21
分類號(hào) H01L21/02;C11D1/83;C11D1/14;C11D1/00;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/10;C11D3/20;C11D3/39;C11D3/60;C11D7/26;C11D7/60 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王燕清;楊佐東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶臻寶科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李陽(yáng)
地址 400050 重慶市九龍坡區(qū)帽九路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體材料的清洗方法，具體步驟如下：先將半導(dǎo)體材料浸入堿性脫脂洗液清洗進(jìn)行脫脂處理，清洗后去離子水沖洗；再進(jìn)行去除金屬離子處理，依次將半導(dǎo)體材料用酸性A洗液浸泡清洗，清洗后去離子水沖洗；接著用中性洗液浸泡清洗，清洗后去離子水沖洗；最后放入酸性B洗液中浸泡清洗，清洗后用去離子水沖洗干凈即可。本發(fā)明提供的清洗方法，大大減少?gòu)?qiáng)酸的使用濃度，減小了環(huán)境污染和對(duì)人體的腐蝕性。洗液穩(wěn)定性好，不會(huì)易分解揮發(fā)，提高了洗液使用壽命，對(duì)硅產(chǎn)品腐蝕性小，不會(huì)增加產(chǎn)品清洗后的Ra。