部分覆蓋的二維碼防偽標(biāo)簽及其形成方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810115748.0 申請日 -
公開（公告）號 CN101615258A 公開（公告）日 2009-12-30
申請公布號 CN101615258A 申請公布日 2009-12-30
分類號 G06K19/06(2006.01)I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 沈維;劉佳兵;郭曉衛(wèi);王四平;羅心晶 申請（專利權(quán)）人 北京華宇信碼技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京嘉和天工知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 銀河聯(lián)動信息技術(shù)（北京）有限公司;卓望信息技術(shù)(北京)有限公司;北京華宇信碼技術(shù)有限公司;卓望信息技術(shù)（北京）有限公司
地址 100080北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路9號銀谷大廈818室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及部分覆蓋的二維碼防偽標(biāo)簽及其形成方法。具體地，一種部分覆蓋的二維碼防偽標(biāo)簽，包括：底層，所述底層包括以光學(xué)方式可讀取的二維碼；以及可去除的表面覆層，所述可去除的表面覆層覆蓋所述二維碼的部分面積，從而在所述可去除的表面覆層沒有被至少部分地去除之前，所述光學(xué)方式可識別的二維碼不能以光學(xué)方式讀取。還公開了部分覆蓋的二維碼防偽標(biāo)簽的示例性形成方法。