硅基集成化的差分電光調(diào)制器及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510573807.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105044931B | 公開(公告)日 | 2018-10-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105044931B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-10-09 |
分類號(hào) | G02F1/015 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 丁建峰;張磊;楊林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 宏芯科技(泉州)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
地址 | 100083 北京市海淀區(qū)清華東路甲35號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種硅基集成化的差分電光調(diào)制器及其制備方法,其光學(xué)基本結(jié)構(gòu)為馬赫?曾德干涉儀結(jié)構(gòu),采用硅基微納波導(dǎo)制作。電極結(jié)構(gòu)采用電容耦合式的共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu),形式是“地極?信號(hào)極?地極”(G?S?G)。馬赫?曾德干涉儀的兩個(gè)相移臂(內(nèi)部通過制作的PN結(jié)進(jìn)行相位調(diào)制)分別位于地極與信號(hào)極的兩個(gè)間隙之間。電容耦合式的共面波導(dǎo)電極結(jié)構(gòu)不僅負(fù)責(zé)將高速交流信號(hào)耦合到相移臂中的PN結(jié)進(jìn)行調(diào)制,而且其電容結(jié)構(gòu)還可以防止輸入電極的兩個(gè)地極將直流偏置電路短路。該結(jié)構(gòu)利用現(xiàn)有的成熟的CMOS工藝降低了器件制作的成本,提高了集成度,從而特別適合在需要高集成度、高性能、低功耗的光互連領(lǐng)域的應(yīng)用。 |
