一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊的生產(chǎn)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811469012.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109599742A | 公開(公告)日 | 2019-04-09 |
申請公布號 | CN109599742A | 申請公布日 | 2019-04-09 |
分類號 | H01S5/183;H01S5/187 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 潘小和 | 申請(專利權(quán))人 | 矽照光電(廈門)有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 361000 福建省廈門市廈門火炬高新區(qū)軟件園創(chuàng)新大廈A區(qū)202-2單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊的生產(chǎn)方法,在目標晶圓襯底上外延生長p?n結(jié)量子發(fā)光薄膜層;外延生長第一層分布式布拉格反射光柵;在硅晶圓襯底上制作具有脈沖寬度調(diào)制的有源矩陣控制電路;將量子發(fā)光外延片粘合在有源矩陣顯示控制電路上;襯底剝離;選擇性地等離子刻蝕形成半導體發(fā)光量子層陣列;用介質(zhì)填平表面,選擇性介質(zhì)等離子刻蝕形成金屬電極陣列;再次用介質(zhì)填平表面,并將表面平整;鍍上一層透明通用電極;外延生長第二層分布式布拉格反射光柵,得到垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊。本發(fā)明可以規(guī)模生產(chǎn)垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊。 |
