一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊與顯示裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811469084.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN109449760B | 公開(公告)日 | 2021-03-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109449760B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-16 |
分類號(hào) | H01S5/343(2006.01)I;H01S5/42(2006.01)I;H01S5/187(2006.01)I;H01S5/042(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 潘小和 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 矽照光電(廈門)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 361000福建省廈門市廈門火炬高新區(qū)軟件園創(chuàng)新大廈A區(qū)202-2單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊與顯示裝置,垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊包括有源矩陣顯示控制電路襯底;第一分布式布拉格反射光柵形成反射鏡陣列;半導(dǎo)體發(fā)光量子層陣列;限制電流分布的光圈孔徑陣列;以及第二分布式布拉格反射光柵形成反射鏡陣列;其中,所述有源矩陣顯示控制電路襯底中的有源矩陣顯示控制電路通過(guò)金屬電極陣列驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體發(fā)光量子層陣列發(fā)光。提供了能夠規(guī)模生產(chǎn)的高密度的垂直腔面發(fā)射激光器陣列模塊,可以實(shí)現(xiàn)在生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)行測(cè)試,因此能夠簡(jiǎn)化工藝,降低制作成本;可用于多種應(yīng)用,包括光通信、3D地形感應(yīng)、顯示和打印等,還具有產(chǎn)品結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。?? |
