一種拋光液及對碳化硅晶體的拋光方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811038755.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108949036B | 公開(公告)日 | 2021-01-05 |
申請公布號 | CN108949036B | 申請公布日 | 2021-01-05 |
分類號 | C09G1/02 | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 吳月英 | 申請(專利權(quán))人 | 北京保利世達(dá)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 北京保利世達(dá)科技有限公司 |
地址 | 102500 北京市房山區(qū)燕山崗南路東一巷6號C座218房間 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種拋光液及對碳化硅晶體的拋光方法。一種拋光液,包括以下成分:按重量百分比計,納米級多晶金剛石6?10%,堿性硅溶膠75?87%,硅烷偶聯(lián)劑為1?2%,抗結(jié)晶劑1?3%,氧化劑1?2%,雙親性有機(jī)物余量。本發(fā)明的拋光液具有良好的潤濕鋪展性能、較高的軟質(zhì)層去除速率、不易結(jié)晶等優(yōu)點(diǎn),因此用于碳化硅的拋光解決了拋光速率低以及拋光效果差的問題,此外,該拋光液與粗磨研磨液和精磨研磨液組合使用后,能夠?qū)崿F(xiàn)高速率、高平整度、高光潔度、低粗糙度的拋光效果。 |
