一種拋光液及對(duì)碳化硅晶體的拋光方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811038755.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN108949036A 公開(kāi)（公告）日 2018-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN108949036A 申請(qǐng)公布日 2018-12-07
分類號(hào) C09G1/02 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 吳月英 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京保利世達(dá)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京保利世達(dá)科技有限公司
地址 102500 北京市房山區(qū)燕山崗南路東一巷6號(hào)C座218房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種拋光液及對(duì)碳化硅晶體的拋光方法。一種拋光液，包括以下成分：按重量百分比計(jì)，納米級(jí)多晶金剛石6?10％，堿性硅溶膠75?87％，硅烷偶聯(lián)劑為1?2％，抗結(jié)晶劑1?3％，氧化劑1?2％，雙親性有機(jī)物余量。本發(fā)明的拋光液具有良好的潤(rùn)濕鋪展性能、較高的軟質(zhì)層去除速率、不易結(jié)晶等優(yōu)點(diǎn)，因此用于碳化硅的拋光解決了拋光速率低以及拋光效果差的問(wèn)題，此外，該拋光液與粗磨研磨液和精磨研磨液組合使用后，能夠?qū)崿F(xiàn)高速率、高平整度、高光潔度、低粗糙度的拋光效果。