微渦流絮凝設(shè)備及絮凝系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020603337.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213294809U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213294809U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-28 |
| 分類號(hào) | C02F1/52(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 蔣劍虹;黃茂林;陳蕃;吳玉華;唐清暢;邱順?lè)?羅松柏;樊佳;李漫 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中國(guó)機(jī)械設(shè)備工程股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 長(zhǎng)沙智嶸專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉宏 |
| 地址 | 100055北京市西城區(qū)廣安門外大街178號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種微渦流絮凝設(shè)備及絮凝系統(tǒng)，微渦流絮凝設(shè)備包括框架以及安裝于框架內(nèi)的微渦流板，微渦流板上開(kāi)設(shè)有若干個(gè)多邊形孔，使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯(cuò)后形成旋渦，各微渦流板傾斜設(shè)置且多塊微渦流板間隔布設(shè)于框架內(nèi)，使水流在微渦流板之間多次改變方向，從而增加了水流中顆粒的碰撞率。本實(shí)用新型的微渦流絮凝設(shè)備，通過(guò)在微渦流板上開(kāi)設(shè)有若干個(gè)多邊形孔，使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯(cuò)，相繼收縮和擴(kuò)大，從而形成漩渦，造成顆粒碰撞，形成良好的絮凝條件，多塊微渦流板傾斜間隔布設(shè)，一部分水流先流到微渦流板上受到阻力而多次改變方向，進(jìn)一步地增加了水流中顆粒的碰撞率，同時(shí)便于利用重力排泥。?? |
