微渦流絮凝設(shè)備及絮凝系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020603337.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213294809U | 公開(公告)日 | 2021-05-28 |
申請公布號 | CN213294809U | 申請公布日 | 2021-05-28 |
分類號 | C02F1/52(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 蔣劍虹;黃茂林;陳蕃;吳玉華;唐清暢;邱順凡;羅松柏;樊佳;李漫 | 申請(專利權(quán))人 | 中國機械設(shè)備工程股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 長沙智嶸專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 劉宏 |
地址 | 100055北京市西城區(qū)廣安門外大街178號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種微渦流絮凝設(shè)備及絮凝系統(tǒng),微渦流絮凝設(shè)備包括框架以及安裝于框架內(nèi)的微渦流板,微渦流板上開設(shè)有若干個多邊形孔,使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯后形成旋渦,各微渦流板傾斜設(shè)置且多塊微渦流板間隔布設(shè)于框架內(nèi),使水流在微渦流板之間多次改變方向,從而增加了水流中顆粒的碰撞率。本實用新型的微渦流絮凝設(shè)備,通過在微渦流板上開設(shè)有若干個多邊形孔,使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯,相繼收縮和擴大,從而形成漩渦,造成顆粒碰撞,形成良好的絮凝條件,多塊微渦流板傾斜間隔布設(shè),一部分水流先流到微渦流板上受到阻力而多次改變方向,進一步地增加了水流中顆粒的碰撞率,同時便于利用重力排泥。?? |
