裝卸片裝置以及磁控濺射鍍膜設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811441180.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110616407A 公開（公告）日 2019-12-27
申請公布號 CN110616407A 申請公布日 2019-12-27
分類號 C23C14/35（2006.01）; C23C14/50（2006.01）; C23C14/56（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐旻生; 莊炳河; 王應斌; 龔文志; 李永杰; 張亮 申請（專利權）人 愛發(fā)科（中國）投資有限公司
代理機構 深圳中一聯(lián)合知識產權代理有限公司 代理人 愛發(fā)科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司;愛發(fā)科（中國）投資有限公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道科技北二路28號豪威大樓二樓A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于磁控濺射鍍膜技術領域，尤其涉及一種裝卸片裝置以及磁控濺射鍍膜設備，其中，裝卸片裝置包括裝料機構和卸料機構，裝料機構包括裝料抓爪、裝料驅動組件、裝料升降組件以及裝料吸持組件，卸料機構包括卸料抓爪、卸料驅動組件、裝料升降組件以及卸料吸持組件?；诎l(fā)明的結構，可以不斷地將基片裝載至掛片送料裝置，以及在基片完成鍍膜后，再從掛片送料裝置上卸下來，整個過程不需要人工操作，可以連續(xù)不斷地作業(yè)，極大地提高裝卸片的效率。