蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)以及濺射鍍膜設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201922098942.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN211199385U 公開(kāi)（公告）日 2020-08-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN211199385U 申請(qǐng)公布日 2020-08-07
分類號(hào) C23C14/34;C23C14/24 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐旻生;莊炳河;王應(yīng)斌;龔文志;張亮;李永杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 愛(ài)發(fā)科（中國(guó)）投資有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 愛(ài)發(fā)科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司;愛(ài)發(fā)科（中國(guó)）投資有限公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道科技北二路28號(hào)豪威大樓二樓A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型屬于真空濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)以及濺射鍍膜設(shè)備，其中，蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)包括蒸發(fā)源裝置、藥液滴灌裝置和同步加藥裝置，蒸發(fā)源裝置至少設(shè)有兩個(gè)，包括加藥閥、具有蒸發(fā)腔的蒸發(fā)箱以及置于蒸發(fā)腔內(nèi)的坩堝，蒸發(fā)箱包于其側(cè)壁開(kāi)設(shè)與蒸發(fā)腔連通且與真空鍍膜室對(duì)接的出料口，以及于其上壁開(kāi)設(shè)與蒸發(fā)腔連通的加藥口，藥液滴灌裝置至少設(shè)有兩個(gè)，包括具有出藥口的引藥管以及用于向引藥管供應(yīng)藥液的供藥結(jié)構(gòu)，其中，各出藥口分別用于將藥液引落至一存藥腔，同步加藥裝置用于一并驅(qū)動(dòng)各出藥口上下運(yùn)動(dòng)，以使各出藥口分別經(jīng)一加藥口進(jìn)出一蒸發(fā)腔。各蒸發(fā)源裝置能夠同時(shí)完成加藥作業(yè)，極大地提高了加藥作業(yè)效率。