一種制造多角度核徑跡的重離子輻照膜的裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201320663931.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN203507834U | 公開(公告)日 | 2014-04-02 |
申請公布號 | CN203507834U | 申請公布日 | 2014-04-02 |
分類號 | B01D69/02(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 楊忠;陳大年;安孟稼;亢抒中 | 申請(專利權(quán))人 | 北京南洋慧通新技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京市盛峰律師事務(wù)所 | 代理人 | 趙建剛 |
地址 | 100085北京市海淀區(qū)上地東路35號院2號樓2-110 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種制造多角度核徑跡的重離子輻照膜的裝置,包括按順序安裝的放膜機構(gòu)、前導(dǎo)膜架、導(dǎo)輥、后導(dǎo)膜架和收膜機構(gòu),所述前導(dǎo)膜架與所述導(dǎo)輥之間的夾角,以及所述后導(dǎo)膜架與所述導(dǎo)輥之間的夾角,相等并且大小可調(diào)整。所述前導(dǎo)膜架和所述后導(dǎo)膜架垂直于走膜方向為上下可移動設(shè)置。所述前導(dǎo)膜架與所述導(dǎo)輥之間的夾角,以及所述后導(dǎo)膜架與所述導(dǎo)輥之間的夾角,角度調(diào)整范圍為0~±45°。本實用新型制得的重離子輻照膜經(jīng)過后續(xù)加工減少產(chǎn)生重孔的幾率。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,制造成本低廉。 |
