退火氧化設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510278862.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104916740B | 公開(公告)日 | 2017-08-11 |
申請公布號 | CN104916740B | 申請公布日 | 2017-08-11 |
分類號 | H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張松;劉超;劉成法;徐大超;王鵬磊;季海晨;高云峰 | 申請(專利權(quán))人 | 上海大族新能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 上海大族新能源科技有限公司 |
地址 | 201615 上海市松江區(qū)九涇路1000號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種退火氧化設(shè)備,該設(shè)備包括爐體、傳送裝置、進(jìn)氣裝置、加熱裝置、冷卻裝置、保溫層和控制裝置。爐體一端設(shè)有進(jìn)料口,另一端設(shè)有出料口,所述爐體包括相互連通的加熱區(qū)和冷卻區(qū),所述冷卻區(qū)靠近所述出料口;進(jìn)氣裝置位于爐體內(nèi)部并與爐體連通,加熱裝置和冷卻裝置均位于爐體外部,控制裝置分別與傳送裝置、加熱裝置、進(jìn)氣裝置和冷卻裝置連接。硅片經(jīng)進(jìn)料口進(jìn)入爐體,經(jīng)傳送裝置自進(jìn)料口向出料口運(yùn)動,硅片在爐體內(nèi)的運(yùn)動過程中,進(jìn)氣裝置不斷向爐體內(nèi)輸送氧氣,控制裝置通過控制加熱裝置、冷卻裝置以及傳送裝置進(jìn)而調(diào)節(jié)爐體內(nèi)的溫度和硅片的傳送速度,從而完成硅片的退火氧化工藝。硅片在從爐體中傳送并輸出的同時(shí)完成了硅片的退火氧化,減少了操作步驟,節(jié)約了生產(chǎn)時(shí)間。 |
