雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201822048032.5 申請日 -
公開（公告）號 CN209493624U 公開（公告）日 2019-10-15
申請公布號 CN209493624U 申請公布日 2019-10-15
分類號 C23C14/35;C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鐘洪偉;劉奎;陳年庚;趙娟;劉子毓 申請（專利權(quán)）人 北京啟迪清潔能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 北京華業(yè)陽光新能源有限公司;北京啟迪清潔能源科技有限公司
地址 100080 北京市海淀區(qū)成府路45號智造大街A座305
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜設(shè)備，是在第一鍍膜室、第二鍍膜室以及室外裝卸工位中都布置有撥盤、軌道以及集熱管小車，第一鍍膜室布置有直流磁控濺射靶，第二鍍膜室同時(shí)布置有直流磁控濺射靶與中頻磁控濺射靶，在第一鍍膜室與第二鍍膜室之間設(shè)置真空通道，第一鍍膜室與室外裝卸工位之間設(shè)置連接通道。使用的時(shí)候，第一鍍膜室一方面作為過渡室使用，用于在第二鍍膜室以及室外裝卸工位之間交換集熱管小車，另一方面可以完成金屬紅外反射涂層鍍膜，而第二鍍膜室可以一直保持在真空狀態(tài)，并完成選擇性吸收涂層鍍膜以及減反層鍍膜，如此周轉(zhuǎn)使用，能夠減小設(shè)備規(guī)模的前提下，盡量提高生產(chǎn)效率與鍍膜質(zhì)量。