一種IO口間無(wú)相互干擾的低電容多通道瞬態(tài)電壓抑制器
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410673950.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN104465649B | 公開(kāi)(公告)日 | 2017-10-03 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104465649B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-10-03 |
分類(lèi)號(hào) | H01L27/02(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L21/8222(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 蔡銀飛;翟東媛;蔣金鴻;朱俊;趙毅 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 杭州啟沛科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 紹興米來(lái)電子科技有限公司 |
地址 | 312099 浙江省紹興市舜江路683號(hào)21樓2111室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 低電容多通道瞬態(tài)電壓抑制器,包括P+半導(dǎo)體襯底,P?外延層位于P+半導(dǎo)體襯底上;外延層上從左到右分別有包含第一環(huán)形P+有源注入?yún)^(qū)的左端,第一N阱,第一環(huán)形P+有源注入?yún)^(qū)的右端,第二N阱,第一P阱,第三N阱,第二環(huán)形P+有源注入?yún)^(qū)的左端,第四N阱,第二環(huán)形P+有源注入?yún)^(qū)的右端。所述的第一N阱和第四N阱上分別設(shè)有第一N+有源注入?yún)^(qū)和第五N+有源注入?yún)^(qū);所述的第二N阱上設(shè)有第二N+有源注入?yún)^(qū)和第二P+有源注入?yún)^(qū);所述的第一P阱上設(shè)有第三N+有源注入?yún)^(qū);所述的第三N阱上設(shè)有第四N+有源注入?yún)^(qū)和第三P+有源注入?yún)^(qū)。 |
