高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010817298.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111925802B 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN111925802B 申請公布日 2021-10-01
分類號 C09K13/06（2006.01）I;H01L21/311（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 王溯;蔣闖;季崢;史筱超 申請（專利權）人 上海新陽半導體材料股份有限公司
代理機構 上海弼興律師事務所 代理人 王衛(wèi)彬;陳卓
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種蝕刻液，其制備方法及應用。本發(fā)明提供了一種蝕刻液，其包括下列重量份數(shù)的組分：0.5?10份化合物M，76.5?84.6份磷酸和13.5?14.9份水。本發(fā)明的蝕刻液對氧化硅膜和氮化硅膜的蝕刻速率選擇比適當、能夠選擇性地去除氮化硅膜、提升蝕刻液的壽命且能適應層疊結構層數(shù)的增加。