高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010817664.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111925804B 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN111925804B 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) C09K13/06（2006.01）I;H01L21/311（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 王溯;蔣闖;季崢;郭杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;陳卓
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用。本發(fā)明具體公開了一種蝕刻液，按質(zhì)量份數(shù)計(jì)，其包括下述組分：0.20?12.00份的如式A所示的化合物、74.00?86.00份的磷酸和13.00?15.00份的水。本發(fā)明的蝕刻液可提高氧化硅和氮化硅的蝕刻選擇比，選擇性地去除氮化物膜，提升蝕刻液的壽命，能適應(yīng)層疊結(jié)構(gòu)層數(shù)的增加。