離子注入光刻膠清洗液、其制備方法及應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010210625.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113433807A 公開（公告）日 2021-09-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN113433807A 申請(qǐng)公布日 2021-09-24
分類號(hào) G03F7/42（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 王溯;蔣闖;馬偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;陳卓
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種離子注入光刻膠清洗液、其制備方法及應(yīng)用。該離子注入光刻膠清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分：0.5％?15％的氧化劑、10％?40％的有機(jī)堿、0.005％?6％的螯合劑、0.005％?6％的緩蝕劑、0.1％?10％的羧酸銨、0.005％?1.5％的表面活性劑、0.005％?5％的有機(jī)硅、0.005％?2.5％的聚季銨鹽和余量的水，所述的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為各組分質(zhì)量占原料的總質(zhì)量的百分比；其中，所述的表面活性劑為EO?PO聚合物L(fēng)62；所述的有機(jī)硅為巰丙基三甲氧基硅烷；所述的聚季銨鹽為聚季銨鹽?16。本發(fā)明的離子注入光刻膠清洗液對(duì)多種金屬和電介質(zhì)緩蝕性強(qiáng)，清洗效果佳。