高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010817663.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111925803B 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN111925803B 申請公布日 2021-10-01
分類號 C09K13/06（2006.01）I;H01L21/311（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 王溯;蔣闖;季崢;郭杰;吳禮文;張雪東 申請（專利權(quán)）人 上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;陳卓
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高選擇比氮化硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用。本發(fā)明具體公開了一種蝕刻液，按質(zhì)量份數(shù)計，其包括下述組分：如式A所示的化合物0.25?12.30份、磷酸75.00?85.70份和水13.20?15.80份。本發(fā)明的蝕刻液可提高氧化硅和氮化硅的蝕刻選擇比，選擇性地去除氮化物膜，提升蝕刻液的壽命，能適應(yīng)層疊結(jié)構(gòu)層數(shù)的增加。