一種高選擇比蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010817231.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111925799B 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN111925799B 申請公布日 2021-10-01
分類號 C09K13/06（2006.01）I;H01L21/311（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 王溯;孫紅旗;季崢;劉金霞;張怡;唐耀宗 申請（專利權(quán)）人 上海新陽半導體材料股份有限公司
代理機構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;陳卓
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高選擇比蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用。該蝕刻液由下述原料制得，所述的原料包括以下質(zhì)量分數(shù)的組分：75％?85％的磷酸、0.1％?12％的化合物A和3％?24％的水，所述的質(zhì)量分數(shù)為各組分質(zhì)量占各組分總質(zhì)量的百分比。本發(fā)明的蝕刻液對氧化硅和氮化硅的蝕刻速率選擇比適當、能夠選擇性地去除氮化物膜、提升蝕刻液的壽命且能適應(yīng)層疊結(jié)構(gòu)層數(shù)的增加。