一種MOSFET扇出型封裝結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022481042.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN213583763U | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN213583763U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-29 |
分類號(hào) | H01L23/485(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L23/482(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 周佳煒;徐德勝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣東佛智芯微電子技術(shù)研究有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州鼎賢知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉莉梅 |
地址 | 528225廣東省佛山市南海區(qū)獅山鎮(zhèn)南海軟件科技園內(nèi)佛高科技智庫中心A座科研樓A107室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開一種MOSFET扇出型封裝結(jié)構(gòu),其中,MOSFET扇出型封裝結(jié)構(gòu)包括:第一塑封層,第一塑封層沿其厚度方向開設(shè)有通孔,通孔由上下兩個(gè)小孔端相鄰的錐形孔連通而成;封裝于第一塑封層內(nèi)的MOSFET,位于MOSFET一側(cè)的第一I/O口和位于MOSFET另一側(cè)的第二I/O口分別外露于第一塑封層;導(dǎo)電柱,填充于通孔內(nèi);第一電連接結(jié)構(gòu),位于第一塑封層的一側(cè)并與導(dǎo)電柱的一端以及第一I/O口連接;第二電連接結(jié)構(gòu),位于第一塑封層的另一側(cè)并與導(dǎo)電柱的另一端以及第二I/O口連接。本實(shí)用新型通過激光雙面鉆錐形孔并形成導(dǎo)電柱,從而將MOSFET背面的線路層引至正面,提高了MOSFET電氣連接的穩(wěn)定性。 |
