一種鍍鎳裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120747635.3 申請日 -
公開（公告）號 CN215103550U 公開（公告）日 2021-12-10
申請公布號 CN215103550U 申請公布日 2021-12-10
分類號 C23C18/36（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 蔡錦波;周曉明 申請（專利權(quán)）人 馬鞍山市檳城電子有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 潘登
地址 243000安徽省馬鞍山市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)湖西南路2189號5棟1號廠房南面
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種鍍鎳裝置，所述的鍍鎳裝置包括鍍鎳槽，鍍鎳槽內(nèi)注入鍍液；鍍鎳槽為雙層結(jié)構(gòu)，包括內(nèi)殼和外殼，內(nèi)殼與外殼之間形成空腔，內(nèi)殼上遍布通孔，空腔內(nèi)設(shè)置有加熱模塊；殼體外接循環(huán)管路，循環(huán)管路的入口端接入外殼底部并與空腔連通，循環(huán)管路的出口端伸入鍍液內(nèi)，循環(huán)管路上設(shè)置有過濾泵，鍍鎳槽內(nèi)的鍍液經(jīng)空腔進入循環(huán)管路，由過濾泵過濾后回流；內(nèi)殼底部設(shè)置有曝氣裝置，曝氣裝置外接氮氣源。本實用新型在循環(huán)管路的基礎(chǔ)上，增設(shè)了曝氣裝置，通過曝氣裝置向鍍錫槽底部鼓入氮氣，使得鍍液在氮氣的鼓泡作用下攪動翻滾，便于回流鍍液的快速擴散、融入和混合，確保了鍍錫槽內(nèi)各處鍍液溫度和濃度的均勻性；保持鍍液的工作穩(wěn)定性。