成像層、成像裝置、電子設備、波帶片結構及感光像元

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911243858.X 申請日 -
公開（公告）號 CN111988499B 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN111988499B 申請公布日 2022-03-15
分類號 H04N5/225（2006.01）I 分類 電通信技術;
發(fā)明人 王曙光;蔡鬧鬧 申請（專利權）人 印象認知（北京）科技有限公司
代理機構 北京弘權知識產權代理有限公司 代理人 逯長明;許偉群
地址 100193北京市海淀區(qū)中關村軟件園9號樓2區(qū)306B房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開一種成像層、成像裝置、電子設備、波帶片結構及感光像元，包括成像層和位于所述成像層下側的圖像傳感器，所述成像層上設有若干個成像孔，每個所述成像孔內設有波帶片結構，所述波帶片結構包括遮光帶和透光帶，所述波帶片結構使經目標物反射的光線匯聚于所述圖像傳感器上成像。在成像層上設置波帶片結構，波帶片結構是根據光干涉的原理計算設計得到，使得經過透光帶的單色光相干增強匯聚于圖像傳感器上，進而使得匯聚在圖像傳感器上的光均為相干增強光線，極大的放大了光強。同時，由于增加了透光面積，由光的波動性產生的干涉/衍射的次峰的相對高度和其與主峰之間的距離也會降低。從而進一步提高了光學分辨率。