整平劑、電鍍液及其在電鍍具有光致抗蝕劑限定特征器件中的應用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910560619.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110172716B | 公開(公告)日 | 2021-08-17 |
申請公布號 | CN110172716B | 申請公布日 | 2021-08-17 |
分類號 | C25D3/38;C25D7/00 | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
發(fā)明人 | 鄒浩斌;高健;席道林;萬會勇;肖定軍 | 申請(專利權)人 | 廣東東碩科技有限公司 |
代理機構 | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 | 代理人 | 鄭彤 |
地址 | 510280 廣東省廣州市白云區(qū)鐘落潭鎮(zhèn)鐘車路36號201房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及整平劑、電鍍液及其在電鍍具有光致抗蝕劑限定特征器件中的應用,其中,整平劑包括功效成分,功效成分為咪唑類化合物、含醚鍵鏈狀胺類化合物和二環(huán)氧化物的反應產物。上述整平劑能夠獲得均勻、致密的銅沉積層,并且銅線路的截面圓弧率較小,盲孔、接合墊和電路布線等特征的外形良好,符合高端電子產品的要求。 |
