一種防止形成濕氣渦流的化學氣相沉積蒸鍍設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020664903.0 申請日 -
公開（公告）號 CN212051642U 公開（公告）日 2020-12-01
申請公布號 CN212051642U 申請公布日 2020-12-01
分類號 C23C16/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 段明浩;張哲;白新愿 申請（專利權）人 西安瀚維光電科技有限公司
代理機構 西安弘理專利事務所 代理人 韓玙
地址 710119陜西省西安市高新區(qū)上林苑一路15號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種防止形成濕氣渦流的化學氣相沉積蒸鍍設備，包括依次連接的進料門、材料蒸發(fā)池、材料裂解池、鍍膜腔體，鍍膜腔體依次通過管道連接冷阱、機械真空泵，鍍膜腔體與冷阱之間的管道上連接慢開截止閥；在鍍膜腔體和冷阱之間增加了可控慢開截止閥，將鍍膜腔體抽真空的初始抽速降低，從而有效地避免了鍍膜腔體壓力陡然下降而造成的濕氣渦旋，進而能夠避免被鍍濕度敏感器件被濕氣渦流損壞的問題；通過真空計的反饋信號閉環(huán)控制鍍膜腔體抽真空和破真空的整個過程，從而有利于實現(xiàn)各個階段真空度和抽速的自動化控制，管道上纏繞的加熱帶控制管道溫度，有效地避免出現(xiàn)抽真空通道被蒸鍍材料堵塞的現(xiàn)象。??