一種雙面曝光裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021500143.6 申請日 -
公開（公告）號 CN213023938U 公開（公告）日 2021-04-20
申請公布號 CN213023938U 申請公布日 2021-04-20
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張雷;章衛(wèi)平 申請（專利權(quán)）人 蘇州源卓光電科技有限公司
代理機構(gòu) 蘇州國誠專利代理有限公司 代理人 王麗
地址 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)汀蘭巷192號C5幢102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種雙面曝光裝置，其結(jié)構(gòu)合理，能夠?qū)暹M行雙面曝光，同時曝光精度高，減少了生產(chǎn)線設(shè)備投入，占地面積小，基座上順序設(shè)置第一工作臺、第一對位系統(tǒng)、第一曝光系統(tǒng)、第二工作臺、第二對位系統(tǒng)、第二曝光系統(tǒng)，第一工作臺和第二工作平臺分別包括多軸運動系統(tǒng)以及轉(zhuǎn)移機構(gòu)，轉(zhuǎn)移機構(gòu)能夠抓取或釋放基板，第一工作臺和第二工作平臺分別可滑動地安裝在直線位移裝置上，第一工作臺抓取基板后在直線位移裝置上移動，經(jīng)過第一對位系統(tǒng)、第一曝光系統(tǒng)對基板的第一表面進行對位、曝光，第二工作平臺從第一工作平臺上轉(zhuǎn)移基板后，第二工作臺在直線位移裝置上移動，經(jīng)過第二對位系統(tǒng)、第二曝光系統(tǒng)對基板的第二表面進行對位、曝光。??