一種雙面曝光裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021500143.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213023938U | 公開（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213023938U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 張雷;章衛(wèi)平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司 | 代理人 | 王麗 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)汀蘭巷192號(hào)C5幢102室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種雙面曝光裝置，其結(jié)構(gòu)合理，能夠?qū)暹M(jìn)行雙面曝光，同時(shí)曝光精度高，減少了生產(chǎn)線設(shè)備投入，占地面積小，基座上順序設(shè)置第一工作臺(tái)、第一對(duì)位系統(tǒng)、第一曝光系統(tǒng)、第二工作臺(tái)、第二對(duì)位系統(tǒng)、第二曝光系統(tǒng)，第一工作臺(tái)和第二工作平臺(tái)分別包括多軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)以及轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)，轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)能夠抓取或釋放基板，第一工作臺(tái)和第二工作平臺(tái)分別可滑動(dòng)地安裝在直線位移裝置上，第一工作臺(tái)抓取基板后在直線位移裝置上移動(dòng)，經(jīng)過第一對(duì)位系統(tǒng)、第一曝光系統(tǒng)對(duì)基板的第一表面進(jìn)行對(duì)位、曝光，第二工作平臺(tái)從第一工作平臺(tái)上轉(zhuǎn)移基板后，第二工作臺(tái)在直線位移裝置上移動(dòng)，經(jīng)過第二對(duì)位系統(tǒng)、第二曝光系統(tǒng)對(duì)基板的第二表面進(jìn)行對(duì)位、曝光。?? |
