一種多目DIC變形場測量裝置和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911204387.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111043978B 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN111043978B 申請公布日 2021-09-07
分類號 G01B11/16 分類 測量；測試;
發(fā)明人 唐小軍;楊鳳龍;劉戰(zhàn)捷;李海俠;回天力;殷蓬勃 申請（專利權(quán)）人 北京衛(wèi)星制造廠有限公司
代理機構(gòu) 中國航天科技專利中心 代理人 臧春喜
地址 100190 北京市海淀區(qū)知春路63號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多目DIC變形場測量裝置和方法，該裝置包括：環(huán)境模擬器、測量支架、待測試件、兩個CCD探測器、視場調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)、測量基線桿、標(biāo)準(zhǔn)對比試件、底板、一體式圓形防護罩、圖像采集與處理計算機和防護罩測控器；一體式圓形防護罩與測量支架連接，測量支架安裝在底板上；視場調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)的兩端分別與一體式圓形防護罩和測量基線桿連接；兩個CCD探測器分別安裝在測量基線桿的兩端；待測試件和標(biāo)準(zhǔn)對比試件分別設(shè)置在底板上；CCD探測器和一體式圓形防護罩分別通過導(dǎo)線/傳輸管線與圖像采集與處理計算機和防護罩測控器連接。本發(fā)明適用于航天器結(jié)構(gòu)在常壓高低溫、真空高低溫環(huán)境下結(jié)構(gòu)三維變形測量。