金剛石半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110357393.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113089093A | 公開(公告)日 | 2021-07-09 |
申請公布號 | CN113089093A | 申請公布日 | 2021-07-09 |
分類號 | C30B28/14(2006.01)I;C30B29/04(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 張粉紅;李熙規(guī) | 申請(專利權(quán))人 | 化合積電(廈門)半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門加減專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李強(qiáng) |
地址 | 361000福建省廈門市軟件園三期誠毅北大街56號402-17室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種金剛石半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法,包括:在提供氫氣和甲烷的條件下,且在未加入催化氣體的條件下,采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法,在襯底上,進(jìn)行金剛石生長初始階段,以在襯底上生長第一多晶金剛石層;在提供氫氣和甲烷的條件下,且在加入催化氣體的條件下,繼續(xù)采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法,在第一多晶金剛石層上,進(jìn)行金剛石生長加速階段,以在第一多晶金剛石層上生長第二多晶金剛石層;對第二多晶金剛石層進(jìn)行匹配研磨。本發(fā)明從產(chǎn)業(yè)化的角度提供一種工藝效率高且產(chǎn)品質(zhì)量好的金剛石半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法。 |
