一種光學(xué)ZnS材料及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011457261.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112626488A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112626488A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-09 |
| 分類號(hào) | C23C16/30;C23C16/448;C23C16/52 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 錢(qián)纁;肖紅濤;張旭;黨參;張克宏;宮月 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京中材人工晶體研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉繼富;王春偉 |
| 地址 | 100018 北京市朝陽(yáng)區(qū)紅松園1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種光學(xué)ZnS材料及其制備方法，其中制備方法包括：將鋅和硫分別裝入化學(xué)氣相沉積爐的第一坩堝和投料裝置；對(duì)第一坩堝、第二坩堝及沉積腔加熱，通過(guò)投料裝置向第二坩堝投放硫；向第一坩堝通入惰性載流氣，向第二坩堝通入惰性載流氣和氫氣，使含有鋅蒸氣和硫蒸氣的載流氣分別通過(guò)管道進(jìn)入沉積腔沉積ZnS，沉積過(guò)程中通過(guò)投料裝置向第二坩堝定時(shí)定量補(bǔ)充硫，以維持硫的飽和蒸氣壓在0.8～1.8KPa范圍內(nèi)。本發(fā)明制備方法不會(huì)產(chǎn)生H2S，因此能夠避免因H2S分解產(chǎn)生H離子與Zn蒸氣形成氫鋅絡(luò)合物而影響ZnS材料的透過(guò)率和發(fā)射率。 |
