一種廢氣治理設(shè)備及其應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110962541.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113499678A 公開（公告）日 2021-10-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN113499678A 申請(qǐng)公布日 2021-10-15
分類號(hào) B01D53/75（2006.01）I;B01D53/86（2006.01）I;B01D53/44（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 葉凱;莊燁;郭俊;巫毅飛;趙亞飛;羅昌河;楊文瑤;徐嬌娜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 福建龍凈環(huán)保股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 藏斌
地址 364000福建省龍巖市工業(yè)中路19號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于環(huán)保領(lǐng)域，尤其涉及一種廢氣治理設(shè)備及其應(yīng)用。本發(fā)明提供的廢氣治理設(shè)備包括：廢氣治理通道；所述廢氣治理通道沿其軸線相對(duì)的兩側(cè)壁面沿垂直于廢氣運(yùn)動(dòng)方向開設(shè)有若干個(gè)等離子體注入孔，兩側(cè)壁面上開設(shè)的所述等離子體注入孔的孔位相互對(duì)稱；每個(gè)所述等離子體注入孔的出氣端均設(shè)置有半圓管型擋板；所述半圓管型擋板的直徑大于等離子體注入孔的孔徑；與所述等離子體注入孔的進(jìn)氣端相連通的注入式低溫等離子體發(fā)生裝置；和設(shè)置于所述廢氣治理通道內(nèi)的催化劑層；沿廢氣運(yùn)動(dòng)方向，所述催化劑層位于所述等離子體注入孔的下游。本發(fā)明提供的廢氣治理設(shè)備降解率高、穩(wěn)定性好、等離子體利用率高、混合效果優(yōu)，具有十分廣闊的市場(chǎng)前景。