核殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)、其制備方法以及應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911278118.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112980428A 公開（公告）日 2021-06-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN112980428A 申請(qǐng)公布日 2021-06-18
分類號(hào) C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;H01L31/0352;H01L51/50 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 高靜;謝陽(yáng)臘;喬培勝;劉俊娜;蘇葉華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江納晶科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波聚禾專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 糜婧;顧賽喜
地址 324004 浙江省衢州市柯城區(qū)高新片區(qū)海棠路12號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了核殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)、其制備方法以及應(yīng)用。其中，核殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)包括第一核殼量子點(diǎn)，其包括量子點(diǎn)核以及包覆在量子點(diǎn)核外的至少兩內(nèi)殼層，第一核殼量子點(diǎn)各層材料的禁帶寬度沿徑向由內(nèi)向外依次增大；以及直接包覆在第一核殼量子點(diǎn)外的第一外殼層，第一外殼層材料的禁帶寬度小于第一核殼量子點(diǎn)最外層材料的禁帶寬度。第一核殼量子點(diǎn)的禁帶寬度沿徑向由內(nèi)向外依次增大，也即殼材料的禁帶寬度大于核材料的禁帶寬度，電子和空穴被禁錮在核中，殼材料物理地把光學(xué)活性中心核與周圍介質(zhì)分開，可以提高量子點(diǎn)的抗水、氧穩(wěn)定性；此外，在第一核殼量子點(diǎn)外生長(zhǎng)了禁帶寬度小的第一外殼層，可以有效抵抗光漂白，從而提升量子效率。