一種基于TE偏振光斜入射模式的雙通道窄帶吸收體

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011222874.3 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112684524B 公開(公告)日 2022-07-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN112684524B 申請(qǐng)公布日 2022-07-01
分類號(hào) G02B5/00(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 陸曉元 申請(qǐng)(專利權(quán))人 新鄉(xiāng)醫(yī)學(xué)院
代理機(jī)構(gòu) 鄭州聯(lián)科專利事務(wù)所(普通合伙) 代理人 -
地址 453003河南省新鄉(xiāng)市金穗大道601號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的目的是提供一種基于TE偏振光斜入射模式的雙通道窄帶吸收體,提供更高的靈敏度和綜合反應(yīng)靈敏度的品質(zhì)因子,包括紅外石墨烯基窄帶吸收單元,紅外石墨烯基窄帶吸收單元包括從上到下位的電介質(zhì)層、緩沖電介質(zhì)層、石墨烯薄膜、高折射率納米腔超表面、金屬基底,所述高折射率納米腔超表面的上端面向下開設(shè)有孔,孔中填充與電介質(zhì)層相同的電介質(zhì),由于該結(jié)構(gòu)的反射譜寬度0.5 nm,諧振位置吸收率高達(dá)97%,所以該結(jié)構(gòu)有助于設(shè)計(jì)高靈敏度折射率傳感器,其中,頂部電介質(zhì)層作為第一個(gè)通道,高折射率納米腔超表面的納米深孔陣列作為第二個(gè)通道,結(jié)果表明該傳感器的靈敏度可達(dá)500 nm/RIU,綜合反應(yīng)靈敏度的品質(zhì)因子高達(dá)1000/RIU,優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)。