便于清潔的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備中的石墨盤

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520931104.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN205223345U 公開(kāi)（公告）日 2016-05-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN205223345U 申請(qǐng)公布日 2016-05-11
分類號(hào) C23C16/18(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丁國(guó)建;張業(yè)民;劉佩;陳宇;張榮勤;宋京 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 天津中環(huán)新光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 代理人 天津中環(huán)新光科技有限公司
地址 300385 天津市西青區(qū)津港公路微電子工業(yè)區(qū)畢升道2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種便于清潔的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備中的石墨盤，設(shè)有：石墨盤，該石墨盤的表面設(shè)有數(shù)個(gè)凹槽，凹槽之外的地方覆蓋有預(yù)埋層，預(yù)埋層上覆蓋有沉積層。本實(shí)用新型便于清潔的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備中的石墨盤，其能夠?qū)⒔饘儆袡C(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備中的石墨盤進(jìn)行干濕法處理，使處理后的石墨盤不僅表面更為干凈，而且，大大縮短了高溫烘烤時(shí)間，節(jié)省了大量電能。