一種真空蒸發(fā)鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320746064.7 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN203754797U 公開（公告）日 2014-08-06
申請公布號(hào) CN203754797U 申請公布日 2014-08-06
分類號(hào) C23C14/24(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 毛念新;嚴(yán)仲君;黃翔鄂;王新征 申請（專利權(quán)）人 上海嘉森真空科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申匯專利代理有限公司 代理人 金碎平
地址 201812 上海市嘉定區(qū)曹安路3652號(hào)6棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種真空蒸發(fā)鍍膜裝置，包括真空室，所述真空室內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源和基片，所述基片的被鍍一面在蒸發(fā)源之上，其中，所述基片固定在可水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的金屬板上；所述真空室的頂部開設(shè)有冷卻氣氛入口,所述冷卻氣氛入口的一側(cè)通過調(diào)節(jié)閥與冷卻氣體氣源相連接，另一側(cè)伸入真空室并設(shè)置有導(dǎo)氣裝置。本實(shí)用新型提供的真空蒸發(fā)鍍膜裝置，將基片固定在可水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的金屬板上，從而保證鍍膜的均勻性，有效避免散熱不均勻或冷卻過快導(dǎo)致基片損壞，提高產(chǎn)品合格率；通過在真空室的頂部開設(shè)冷卻氣氛入口，采用氣體冷卻的方式，進(jìn)一步簡化真空室內(nèi)機(jī)械結(jié)構(gòu)并能實(shí)時(shí)監(jiān)測基片背后的金屬板的溫度即基片的表面溫度。