一種微波等離子輔助的濺射光學(xué)成膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010021521.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111074225A 公開（公告）日 2020-04-28
申請公布號 CN111074225A 申請公布日 2020-04-28
分類號 C23C14/35;C23C14/10;C23C14/08 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 毛念新;黃翔鄂;嚴(yán)仲君 申請（專利權(quán)）人 上海嘉森真空科技有限公司
代理機構(gòu) 上海三方專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳瑋
地址 201801 上海市嘉定區(qū)博學(xué)南路1015弄9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及濺射成膜技術(shù)領(lǐng)域，具體來說是一種微波等離子輔助的濺射光學(xué)成膜方法，在濺射過程中，通過固態(tài)微波源激勵等離子體實現(xiàn)膜層氧化，以提高膜層折射率的穩(wěn)定性。本發(fā)明優(yōu)選地采用工業(yè)微波頻率為2450MHz的固態(tài)微波源，相對于使用RF射頻激勵等離子體的方式其具有以下優(yōu)點：使用頻率提高很大，RF射頻頻率為13.56M Hz，而微波頻率為2450M Hz，使得氧氣在真空腔室內(nèi)活化的效率大大提高；不需要使用大功率射頻電源，或使用多個射頻氧化源，大幅降低設(shè)備成本；膜層折射率穩(wěn)定性大幅提高，鍍膜產(chǎn)品品質(zhì)、良品率提高；采用矩形諧振腔的設(shè)計，使諧振腔內(nèi)微波諧振腔模式數(shù)取得最大值，提高微波場的均勻性。