一種濺射鍍膜機(jī)基片架整體取出裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020082432.2 申請日 -
公開（公告）號 CN211645372U 公開（公告）日 2020-10-09
申請公布號 CN211645372U 申請公布日 2020-10-09
分類號 C23C14/50(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 毛念新;黃翔鄂;嚴(yán)仲君 申請（專利權(quán)）人 上海嘉森真空科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海三方專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳瑋
地址 201801上海市嘉定區(qū)博學(xué)南路1015弄9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體來說是一種濺射鍍膜機(jī)基片架整體取出裝置，其特征在于一上傳動盤，上傳動盤中部設(shè)有固定法蘭，固定法蘭頂部通過長螺桿與頂錐連接；一下傳動盤；一中心軸，中心軸頂部與頂錐連接，底部穿過下傳動盤與底錐連接；一彈簧，設(shè)置于中心軸外側(cè)，彈簧一端連接上傳動盤，彈簧另一端連接下傳動盤，其優(yōu)點(diǎn)在于：結(jié)構(gòu)簡單，方便裝夾，安裝位置更精確，節(jié)省人力。??