一種微波等離子濺射光學(xué)鍍膜機(jī)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020041420.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212051629U | 公開（公告）日 | 2020-12-01 |
| 申請公布號 | CN212051629U | 申請公布日 | 2020-12-01 |
| 分類號 | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 毛念新;黃翔鄂;嚴(yán)仲君 | 申請（專利權(quán)）人 | 上海嘉森真空科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海三方專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 吳瑋 |
| 地址 | 201801上海市嘉定區(qū)博學(xué)南路1015弄9號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉及濺射成膜技術(shù)領(lǐng)域，具體來說是一種微波等離子濺射光學(xué)鍍膜機(jī)，包括一圓形的真空室，真空室的半周的環(huán)向內(nèi)側(cè)依次間隔設(shè)置有若干靶材，在所述的真空室的另一半周的中部設(shè)有微波磁控管組件，所述的微波磁控管組件包括固態(tài)微波源、調(diào)諧器和定向耦合器波導(dǎo)。本實用新型結(jié)構(gòu)簡潔、新穎，選擇合理的靶材及其設(shè)置位置，通過獨(dú)特設(shè)計的微波磁控管組件實現(xiàn)對其激勵，使用頻率提高很大，使得氧氣在真空腔室內(nèi)活化的效率大大提高；不需要使用大功率射頻電源，或使用多個射頻氧化源，大幅降低設(shè)備成本；膜層折射率穩(wěn)定性大幅提高，鍍膜產(chǎn)品品質(zhì)、良品率提高；采用矩形諧振腔的設(shè)計，使諧振腔內(nèi)微波諧振腔模式數(shù)取得最大值，提高微波場的均勻性。?? |
