一種可調(diào)式磁場裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020046677.X 申請日 -
公開(公告)號 CN212025446U 公開(公告)日 2020-11-27
申請公布號 CN212025446U 申請公布日 2020-11-27
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 毛念新;黃翔鄂;嚴(yán)仲君 申請(專利權(quán))人 上海嘉森真空科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海三方專利事務(wù)所(普通合伙) 代理人 吳瑋
地址 201801上海市嘉定區(qū)博學(xué)南路1015弄9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體來說是一種可調(diào)式磁場裝置,包括冷卻塊、磁鐵支架、磁鐵蓋板、圓形磁鐵和磁控固定板,其特征在于:所述冷卻塊由槽形內(nèi)框體組成,所述冷卻塊內(nèi)部設(shè)有磁鐵支架,所述磁鐵支架內(nèi)部設(shè)有若干圓形磁鐵,所述磁鐵支架上端設(shè)有磁鐵蓋板,所述磁鐵蓋板上端設(shè)有磁控固定板,磁鐵支架與磁控固定板采用輕便的材質(zhì)使得整體更換與調(diào)節(jié)更為方便,且鋁材與塑料也杜絕了生銹帶來的各種問題,通過改動(dòng)圓形磁鐵的數(shù)量來改變每個(gè)電磁場方向和磁通量的大小,從而提高了沉積速度,增加了鍍膜的穩(wěn)定性,滿足了工藝穩(wěn)定等問題,使得鍍膜的厚度更加均勻,本實(shí)用新型不但提高了靶材的利用率,降低了設(shè)備的投入成本。??