濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201320884387.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN203760435U 公開(kāi)（公告）日 2014-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN203760435U 申請(qǐng)公布日 2014-08-06
分類號(hào) H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 宋道新;萬(wàn)福旺;張振興 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 山東天信光伏新能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東營(yíng)雙橋?qū)＠碛邢挢?zé)任公司 代理人 羅文遠(yuǎn)
地址 257091 山東省東營(yíng)市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)淮河路79號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置。其技術(shù)方案是：包括快速接頭、水刀管路、水刀、水刀支架、單向閥，所述的水刀管路的一側(cè)連接快速接頭，快速接頭外側(cè)連接單向閥，水刀管路的另一側(cè)連接水刀，所述水刀管路的端部設(shè)有水刀支架，通過(guò)水刀支架固定水刀管路的位置。有益效果是：在入料時(shí)通過(guò)水刀加裝一層水膜，形成保護(hù)層，隔絕了酸霧與硅片表面的接觸，從而保護(hù)了硅片表面的磷硅玻璃，保證了硅片出料后的方阻提升在一個(gè)可控的范圍之內(nèi)，有效的控制了方阻的提升，對(duì)于硅片的質(zhì)量進(jìn)行了有力的保障，而且隔絕了酸霧對(duì)硅片表面的影響，使整個(gè)硅片出料后的外觀得到了極大地改善。