一種法拉第屏蔽裝置、等離子體刻蝕系統(tǒng)及其使用方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010470678.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113745085A 公開（公告）日 2021-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113745085A 申請(qǐng)公布日 2021-12-03
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01J37/02（2006.01）I;H01J37/305（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H05B1/02（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 郭頌;劉海洋;王鋮熠;程實(shí)然;劉小波;張軍;胡冬冬;許開東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京魯汶半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 肖鵬
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海二路28號(hào)4幢2層203
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種法拉第屏蔽裝置、等離子體刻蝕系統(tǒng)及其使用方法，所述法拉第屏蔽裝置包括法拉第屏蔽板和加熱電路；所述法拉第屏蔽板包括導(dǎo)電環(huán)和多個(gè)輻射對(duì)稱連接在導(dǎo)電環(huán)外周的導(dǎo)電瓣?duì)罴?；所述加熱電路用于刻蝕工藝時(shí)，通電加熱法拉第屏蔽板。本發(fā)明當(dāng)刻蝕工藝時(shí)，導(dǎo)通加熱電路與法拉第屏蔽板，使法拉第屏蔽板通電溫度升高，加熱介質(zhì)窗，減少產(chǎn)物的沉積量；由于法拉第屏蔽板與介質(zhì)窗直接接觸，加熱效率高，熱量散失少，簡化了設(shè)備結(jié)構(gòu)；當(dāng)清洗工藝時(shí)，關(guān)閉加熱電路與法拉第屏蔽板，法拉第屏蔽板接入屏蔽電源，對(duì)介質(zhì)窗進(jìn)行清洗；所述加熱電源的輸出端經(jīng)濾波電路單元濾波后，連接至法拉第屏蔽板，有效防止射頻線圈與法拉第屏蔽板之間產(chǎn)生耦合。