一種晶圓掃描噴嘴清洗槽
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021130986.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN213162175U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-05-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN213162175U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-11 |
分類號(hào) | B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 鄒志文;華強(qiáng);侯永剛;黃奔;孟慶國(guó);劉杰;崔虎山;許開(kāi)東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京魯汶半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 王美章 |
地址 | 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)經(jīng)海二路28號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種晶圓掃描噴嘴清洗槽,包括:槽體、設(shè)置在槽體外壁上的進(jìn)液接頭、設(shè)置在槽體底部的排液接頭,還包括:隔膜泵,通過(guò)下排管路與所述排液接頭連接。本實(shí)用新型一種晶圓掃描噴嘴清洗槽,在純水槽溢流和下排增加一個(gè)隔膜泵保證管路處于一個(gè)弱真空的狀態(tài),從而有利于UPW的快速溢流和直排作業(yè)。 |
