提高單晶硅品質(zhì)的熱場(chǎng)及方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911410265.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN110923807B | 公開(公告)日 | 2021-06-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110923807B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-08 |
分類號(hào) | C30B15/14;C30B29/06 | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 閆廣寧;楊紅濤;董永見 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 寧晉晶興電子材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市萬慧達(dá)律師事務(wù)所 | 代理人 | 張一帆 |
地址 | 055550 河北省邢臺(tái)市寧晉縣高新技術(shù)開發(fā)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種提高單晶硅品質(zhì)的熱場(chǎng)及方法。熱場(chǎng)包括石英坩堝以及同軸等徑設(shè)置的主加熱器和副加熱器,主加熱器相對(duì)于石英坩堝的中上部設(shè)置,由若干個(gè)等長(zhǎng)的主加熱瓣環(huán)設(shè)而成;副加熱器相對(duì)于石英坩堝的下部設(shè)置,由若干個(gè)等長(zhǎng)的副加熱瓣環(huán)設(shè)而成,主加熱器和副加熱器的表面還噴涂有用以避免碳揮發(fā)的耐高溫水基納米涂層。方法包括采用前述熱場(chǎng)生產(chǎn)單晶硅,包括清潔多晶硅料、清爐、裝料、化料、二次加料、引頸、放肩、等徑、收尾和提出的步驟。本發(fā)明提供的熱場(chǎng)可以減少熱對(duì)流,降低單晶硅中單晶氧元素等雜質(zhì)的含量,由該方法制得的單晶硅中氧、碳、金屬等雜質(zhì)含量少,用于生產(chǎn)電池片時(shí),可以有效提高電池的效率,降低電池片的衰減。 |
