一種坩堝組件及長(zhǎng)晶爐
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910208143.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109868503A | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109868503A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-06-11 |
分類(lèi)號(hào) | C30B15/12(2006.01)I; C30B29/06(2006.01)I | 分類(lèi) | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 夏秋良; 范雪峰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 新美光(蘇州)半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 蘇州新美光納米科技有限公司 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城NW-20#107、108、109、110 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種坩堝組件及長(zhǎng)晶爐,涉及晶體生長(zhǎng)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該坩堝組件包括石英坩堝、石墨坩堝以及隔離層,石英坩堝設(shè)于石墨坩堝內(nèi),隔離層設(shè)于石英坩堝與石墨坩堝之間,隔離層用于阻隔石英坩堝與石墨坩堝發(fā)生接觸反應(yīng)。該長(zhǎng)晶爐包括爐體、用于提拉和旋轉(zhuǎn)籽晶的提拉旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),以及上述的坩堝組件,坩堝組件位于爐體內(nèi),長(zhǎng)晶爐還包括環(huán)設(shè)于坩堝組件的石墨坩堝外部的加熱器,其中,坩堝組件的石英坩堝內(nèi)用于容納原料。該坩堝組件能夠降低石墨坩堝的氧化侵蝕速度,進(jìn)而增加了石墨坩堝的使用壽命,同時(shí)降低了單晶硅棒內(nèi)的碳氧堆積,提高了單晶硅棒的整體質(zhì)量。 |
