可視化的真空陰極磁過濾裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210184605.5 申請日 -
公開(公告)號 CN114457310A 公開(公告)日 2022-05-10
申請公布號 CN114457310A 申請公布日 2022-05-10
分類號 C23C14/32(2006.01)I;C23C14/52(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 曹時義;周敏;王俊鋒 申請(專利權(quán))人 廣東鼎泰高科技術(shù)股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 -
地址 523071廣東省東莞市厚街鎮(zhèn)赤嶺工業(yè)一環(huán)路12號之一2號樓102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明一種可視化的真空陰極磁過濾裝置,包括管道,所述管道上開設(shè)至少一個第一鑲嵌口,所述第一鑲嵌口上嵌設(shè)有透明板,所述透明板沿管道長度方向延伸,所述透明板與第一鑲嵌口相對密封固定,所述透明板呈雙層透明結(jié)構(gòu),所述透明板包括內(nèi)層透明板和外層透明板,所述內(nèi)層透明板與所述外層透明板之間的空間形成第一冷卻水通道,所述外層透明玻璃板上設(shè)有進水口和出水口,所述進水口和出水口與所述第一冷卻水通道連通。該設(shè)計通過在管道上設(shè)計透明板,可以更好地觀察和測量實驗參數(shù)對靶面弧斑運動、金屬或氣體離化率、等離子體密度、金屬離化能量、涂層性能的定向定量分析,有利于改進和更新工藝設(shè)計。