一種等離子體增強清洗裝置及清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111681333.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114438441A 公開（公告）日 2022-05-06
申請公布號 CN114438441A 申請公布日 2022-05-06
分類號 C23C14/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 曹時義;王俊鋒;袁明 申請（專利權(quán)）人 廣東鼎泰高科技術(shù)股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 代理人 侯柏龍
地址 523071廣東省東莞市厚街鎮(zhèn)赤嶺工業(yè)一環(huán)路12號之一2號樓102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種等離子體增強清洗裝置，用于清洗待處理產(chǎn)品，包括真空腔室、等離子體發(fā)生器、安裝部、脈沖偏壓電源，真空腔室具有進氣口和出氣口，離子體發(fā)生器包括呈空腔的本體部，本體部具有上部和下部，上部和下部相對設(shè)置且均設(shè)有若干鏤空部；安裝部伸入所述真空腔室內(nèi)以供等離子體發(fā)生器進行安裝；脈沖偏壓電源的正極與真空腔室電連接形成陽極，脈沖偏壓電源的負極與等離子體發(fā)生器電連接。該等離子體增強清洗裝置能形成傘狀輝光等離子體，增強上下轟擊，提高對異型治具、大鉆、PCB特刀、深刀槽刀具等產(chǎn)品的清潔能力，可進行橫向和縱向的深度輝光清洗，整體提升產(chǎn)品各個面的清洗和活化效果。本發(fā)明還提供一種清洗方法。