一種等離子體清洗系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111680984.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114453345A 公開（公告）日 2022-05-10
申請公布號 CN114453345A 申請公布日 2022-05-10
分類號 B08B7/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 曹時義;周敏;王俊鋒 申請（專利權(quán)）人 廣東鼎泰高科技術(shù)股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 代理人 -
地址 523071廣東省東莞市厚街鎮(zhèn)赤嶺工業(yè)一環(huán)路12號之一2號樓102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種等離子體清洗系統(tǒng)，用于清洗待處理產(chǎn)品，包括真空腔室、至少一組等離子體發(fā)生器、安裝架和脈沖偏壓電源，真空腔室具有進氣口和出氣口，等離子體發(fā)生器包括同軸且間隔設置的第一平板和第二平板，第一平板設有若干第一貫穿孔，第二平板設有若干第二貫穿孔，第一平板和第二平板之間具有間隙，第一平板和第二平板位于安裝架；脈沖偏壓電源的正極與真空腔室電連接形成陽極，脈沖偏壓電源的負極與第一平板和第二平板電連接。本發(fā)明的等離子體清洗系統(tǒng)，在脈沖電壓電場作用下，第一平板和第二平板之間的輝光區(qū)交疊，使的大量流動的氣體被擊穿電離，從而產(chǎn)生輝光等離子體，對待處理產(chǎn)品進行清洗，且清洗效果好。