還原爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022494674.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214299304U 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN214299304U 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) C01B33/035（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 宗冰;張寶順;任長(zhǎng)春;蘇明錄;孟兵營(yíng) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 青海省亞硅硅材料工程技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 馮潔
地址 810007青海省西寧市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)金硅路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種還原爐，包括對(duì)可見及紅外光具有反射作用的光反射層和對(duì)可見及紅外光具有透射作用的光透射層，所述光反射層包括靠近反應(yīng)物料一側(cè)的反射端面和另一側(cè)的貼合端面，所述光透射層設(shè)置在所述反射端面上。能夠避免光反射層在還原爐的間歇性運(yùn)行中與空氣中的氧氣結(jié)合而在表面生成金屬氧化膜，使得光反射層的反射性能急劇下降，無法長(zhǎng)時(shí)間維持高的反射率的情況。