一種離子束濺射輔助鍍膜機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711160242.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN107988579B 公開（公告）日 2019-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN107988579B 申請(qǐng)公布日 2019-12-03
分類號(hào) C23C14/34 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王三勝;劉靜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京鼎臣世紀(jì)超導(dǎo)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京慕達(dá)星云知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 李冉
地址 100095 北京市海淀區(qū)永豐產(chǎn)業(yè)基地永澤北路7號(hào)院4號(hào)樓307室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種離子束濺射輔助鍍膜機(jī)，包括真空腔室、一個(gè)主離子源和中和裝置；所述真空腔室的一側(cè)設(shè)置所述主離子源；所述主離子源由陰極燈絲組成，所述陰極燈絲為φ0.2且纏繞成彈簧形狀，直徑為1.0mm，纏繞5?10圈；所述中和裝置安裝在所述真空腔室與所述主離子源靠近的真空腔室內(nèi)側(cè)壁上；所述中和裝置內(nèi)設(shè)有中和燈絲。本發(fā)明實(shí)施例通過更改主離子源燈絲結(jié)構(gòu)，添加了中和裝置，提高了離子束濺射輔助鍍膜機(jī)的工作時(shí)長(zhǎng)，大大提高了工作效率，并且可鍍的薄膜的厚度增加到十微米以上，并且保證了薄膜不會(huì)因?yàn)楹穸鹊脑黾佣a(chǎn)生應(yīng)力使得薄膜剝落。