超低電容固體放電管
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201320854955.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN203644786U | 公開(kāi)(公告)日 | 2014-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN203644786U | 申請(qǐng)公布日 | 2014-06-11 |
分類號(hào) | H01L29/74(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 倪俠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京弘高創(chuàng)意建筑設(shè)計(jì)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 江蘇東光微電子股份有限公司;江蘇東晨電子科技有限公司 |
地址 | 214205 江蘇省無(wú)錫市宜興新街百合工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種超低電容固體放電管,它包括上下兩個(gè)硼基區(qū)P,在上下兩個(gè)硼基區(qū)P內(nèi)分別布置四個(gè)磷擴(kuò)散區(qū)N+,形成元胞式陰極。本實(shí)用新型的上下兩個(gè)硼基區(qū)P的外側(cè)均設(shè)有金屬層;在上下兩個(gè)硼基區(qū)P內(nèi)的磷擴(kuò)散區(qū)N+等距分布;磷擴(kuò)散區(qū)N+的結(jié)深為25~30μm;在上下兩個(gè)硼基區(qū)P的結(jié)深均為10~15μm。本實(shí)用新型在原低電容結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上,將陰極調(diào)整為元胞式分布,提高每個(gè)元胞陰極的熱沉周長(zhǎng),從而在相同芯片面積的基礎(chǔ)上增加通流能力?;谠撛O(shè)計(jì),原芯片面積可進(jìn)行縮減,進(jìn)而減小PN結(jié)面積,降低結(jié)電容。 |
